Исследование кинетики растекания не только позволяет решить некоторые практические вопросы, связанные с организацией окисных покрытий на металлах, но и дает возможность оценить движущие силы растекания. При теоретическом рассмотрении процессов растекания жидких окислов по поверхности тугоплавких металлов следует учитывать, что реальные процессы, протекающие на контактной границе, намного сложнее, чем в схеме, предложенной авторами выше. На характер и кинетику растекания сильно влияют не только процессы контактного взаимодействия, но и те изменения, которые претерпевают окислы в процессе растекания: диссоциация с образованием твердых продуктов, летучесть и т. д. С помощью киносъемки капли жидкого окисла, нанесенной на поверхность металла, изучали закономерности процесса смачивания и растекания жидких окислов и тугоплавких металлов при температуре плавления соответствующего окисла. Процесс осуществляли в вакууме и среде аргона при исследовании окислов титана, тантала, ванадия и ниобия и только в среде аргона при исследовании окислов вольфрама и молибдена, которые характеризуются повышенной летучестью.