Результаты этих исследований, проведенных в условиях совместного нагрева окисла и подложки, свидетельствуют о том, что жидкая окись алюминия на вольфраме образует краевой угол смачивания порядка 50° в вакууме, 35° в атмосфере азота, 16—18° в атмосфере окиси углерода и водорода. Отмеченное снижение краевого угла смачивания может произойти вследствие адсорбционного понижения поверхностного натяжения жидкой окись алюминия, что, получает заметное развитие в атмосфере окиси углерода и азота. Нельзя не учитывать также возможности протекания межфазных реакций с участием окружающего газа. Об этом свидетельствует характер смачивания тантала жидкой окисью алюминия: начальный краевой угол смачивания, равный 38°, по Холлу, заметно снижается в процессе эксперимента, продолжительность которого составляет 30 мин. Жидкая окись бериллия, по данным, полностью смачивает поверхность вольфрама и тантала как в вакууме, так и в атмосфере водорода. В качестве подложек использовали компактные листовые или прессованные. Окись алюминия имела чистоту 99,99%. Краевой угол смачивания молибдена снижается от 52 до 36° в течение 40 мин и затем остается постоянным. Краевой угол смачивания ниобия и тантала также снижается во время изотермической выдержки. В случае тантала он достигает нулевого значения после 50-мин выдержки, что свидетельствует о межфазном взаимодействии между жидкой окисью алюминия и тугоплавкими металлами. Следует заметить, что данные, полученные в этой работе, не совпадают с данными, полученными ранее в работах.